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11件の検索結果があります。
1 ～ 11 件を表示しています。
スパッタ装置（カルーセルタイプ) |
| コード |
装置名 |
メーカー |
型式 |
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| 1102 |
スパッタ装置（カルーセルタイプ) |
シンクロン |
BSC-7021 |
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 S/N： 890061
ターゲット電極： 5”×20”角型 2個
基板治具： 10面体 高さ405m/m中心から295m/m
加熱温度： MAX300℃、常用200℃
スパッタ電源： D.C. SP-10D型 1式
排気系操作方式： 自動操作方式
スパッタリング方式： 水晶式 1C6000
荒引： KP-3000A
本引： クライオポンプ TM250-W型
自動再生ユニット BM-1B型
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スパッタ装置 |
| コード |
装置名 |
メーカー |
型式 |
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| 1099 |
スパッタ装置 |
トッキ |
SPK-502 |
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 Φ6吋,2元RF,DC
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スパッター装置 |
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 対向ターゲット式スパッター装置
年式：1992年
【スパッタ方式】
φ6”カソード対向
RF1Kw
基板バイアス加温
メタルナ保護膜
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スパッター装置 |
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 年式：1992年1月
【基板関係】
φ3”プレナー
マグネットロンカソード1
磁性体カソード1
非磁性体カソード1
【スパッタ方式】
φ3”3元
逆スパッター可/RF2基
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スパッタリング装置 |
| コード |
装置名 |
メーカー |
型式 |
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| 1095 |
スパッタリング装置 |
トッキ |
SPM-404A |
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 到達圧力:10-5Pa(10-7torr)台
排気時間:10-4Pa(10-6Torr)台まで20分以内
常用圧力:10-1Pa(10-3Torr)台
測定条件:無加熱,無試料,N2導入後大気放置3分以内スパッタ室で測定
φ3吋プレ－ナ－マグネトロンカソード4式
基盤加熱最高温度800℃
常温温度600℃
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スパッタリング装置 |
| コード |
装置名 |
メーカー |
型式 |
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| 1092 |
スパッタリング装置 |
VCR |
IBS/TM200S |
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スパッタリング装置 |
| コード |
装置名 |
メーカー |
型式 |
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| 1091 |
スパッタリング装置 |
芝浦 |
CFS-4EP |
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 φ3”マグネトロンカソード3式、DC
・スパッタ方式 サイドスパッター
Φ3”3元同時スパッタ可
・真空槽 大きさ400㎜Φ×200D 1基
材質はタンク部 SUS, 前後フランジ,A1合金
覗窓(シャッター付）
・DC電源電源(出力1A-500V) 3台
・ターゲット Φ76.2×3㎜t以下 1
・治具 Φ230一軸公転加熱テーブル 1式
・基板温度300℃
・排気系 R.P.(DRP-180BY)
C.P.(uv-202-06J 800ℓ/Sec(N2)
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スパッタリング装置 |
| コード |
装置名 |
メーカー |
型式 |
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| 1087 |
スパッタリング装置 |
トッキ |
SB-100 |
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簡易式ロードロック式
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スパッタリング装置 |
| コード |
装置名 |
メーカー |
型式 |
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| 1085 |
スパッタリング装置 |
芝浦 |
CFS-8EP-45 |
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スパッタリング装置 |
| コード |
装置名 |
メーカー |
型式 |
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| 1084 |
スパッタリング装置 |
アルバック |
SBH-2206RE |
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一元式スパッタリング装置 |
| コード |
装置名 |
メーカー |
型式 |
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| 1011 |
一元式スパッタリング装置 |
芝浦 |
CFS-8EP |
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 5インチ×1元
DC マグネトロン
基板 ターンテーブル無し
真空室 φ450×H350
スパッタ方式 マグネトロンカソード φ5インチ×1
DC電源 500V×4A（SPS－2HS DC－4）
水晶モニター:無し ヒーター:無し
排気系 RP：RP－1200Z 1200l／min
DP：ESV－8 2000l／s
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